[16a-Z23-1~11] 13.2 Exploratory Materials, Physical Properties, Devices

[16a-Z23-5] Application of mechanochemical effects to close-spaced evaporation of BaSi₂

〇Kosuke Hara¹, Chiaya Yamamoto², Junji Yamanaka², Keisuke Arimoto¹ (1.CCST, Univ. of Yamanashi, 2.CIA, Univ. of Yamanashi)

Keywords:barium silicide, mechanical alloying, thin film

近接蒸着法は高速で大面積に展開可能なBaSi₂の成膜法であるが、その成膜温度は1000 °Cに限られており、熱歪みによるクラック発生という課題があった。本研究は、BaAl₄–Ni原料のメカノケミカル処理によりBaSi₂成膜温度の低減を目指した。その結果、成膜温度を700 °Cまで低下させ、クラックフリーBaSi₂薄膜を作製することに成功した。