The 68th JSAP Spring Meeting 2021

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[16a-Z33-1~10] 6.3 Oxide electronics

Tue. Mar 16, 2021 9:00 AM - 12:00 PM Z33 (Z33)

Hisashi Shima(AIST), Atsushi Fukuchi(Hokkaido Univ.)

11:15 AM - 11:30 AM

[16a-Z33-8] Evaluation of Electronic States of Resistive Random Access Memory Using Low-Frequency-Noise Spectroscopy

〇(M1)Kota Sugawara1,2, Hiroshi Suga1,2, Yasuhisa Naitoh1, Hisashi Shima1, Hiroyuki Akinaga1 (1.AIST, 2.CIT)

Keywords:resistive random access memory

抵抗変化メモリは抵抗変化の起源が,酸素イオンの移動を伴うことから,変化する抵抗値を正確に制御することが課題となっている.本研究では,低周波ノイズ分光法を用いて,温度に対する様々なノイズのピーク強度を求め,アレニウスプロットでフィッティングし,活性化エネルギーを求めた.活性化エネルギーの値から,抵抗変化に寄与している電子は酸素欠損由来のトラップの影響を受けていると考えられた.