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[16p-Z03-1] XANAMによるSi-Ge量子ドットにおけるX線誘起力変化の調査
キーワード:X線、ゲルマニウム、元素分析
試料表面の化学分析をナノスケールで行う手法として、NC-AFMと放射光X線を組み合わせたX線支援非接触原子間力顕微鏡(XANAM)を開発してきた。これまでX線照射下のGe量子ドットを数ナノスケールの空間分解能でイメージングが可能であることを報告した。今回、Ge量子ドット像およびSi被覆Ge量子ドットのX線エネルギー依存性をより高精度に測定し、力変化の起源が共有結合力由来であるか検証する。