[16p-Z13-1~12] 1.1 Interdisciplinary and General Physics

△ [16p-Z13-3] Effects of dopant to DIW in freeze cleaning method

〇Minami Nakamura¹, Kensuke Demura¹, Satoshi Nakamura¹, Masaya Kamiya¹, Kei Hattori^1,2 (1.Shibaura Mechatronics Corp, 2.Nagoya Univ. Center for Low-Temperature Plasma Sciences)

Keywords:freeze cleaning, photomask, removal of fine particles

流体を用いた洗浄において、基板表面から約100nmの領域は、実質的な流れがない滞留層と呼ばれ、原理的に洗浄できない。物理化学力を高めると、基板ダメージが惹起され、トレードオフの関係にある。これに対して、微小異物を選択的に除去する方法として、水が氷る際の体積膨張を利用して、異物のみを除去する凍結洗浄を開発した。今回我々は、水に微量の薬液(アンモニア)を添加した効果を評価したので、結果を報告する。