[16p-Z17-1~13] 12.1 作製・構造制御

△ [16p-Z17-4] pH応答性ナノ多孔質SiO₂超薄膜の作製と選択的イオン透過

〇石崎 裕也¹、山本 俊介¹、宮下 徳治¹、三ツ石 方也¹ (1.東北大院工)

キーワード：表面機能化、高分子ナノシート、シルセスキオキサン

本研究では、かご型シルセスキオキサン含有高分子ナノシートを前駆体として得られるナノ多孔質(NP) SiO₂超薄膜の表面機能化およびその選択的イオン透過性の制御を検討した。NP SiO₂超薄膜表面はアミノ基含有pH応答性シランカップリング材である3-aminopropyltriethoxysilaneを用いて修飾した (NP SiO₂-NH₂)。その結果、溶液pHがNP SiO₂-NH₂超薄膜の等電点以下の条件において、電荷選択的なイオン透過性の制御に成功した。