The 68th JSAP Spring Meeting 2021

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[16p-Z27-1~15] 15.4 III-V-group nitride crystals

Tue. Mar 16, 2021 1:00 PM - 5:15 PM Z27 (Z27)

Motoaki Iwaya(Meijo Univ.), Ryuji Katayama(Osaka Univ.), Tomoyuki Tanikawa(Osaka Univ.)

1:00 PM - 1:15 PM

[16p-Z27-1] Analysis of AlGaN UVB LD to reduce threshold current density

Kosuke Sato1,2, Tomoya Omori2, Kazuki Yamada2, Shunya Tanaka2, Sayaka Ishizuka2, Shohei Teramura2, Sho Iwayama2, Motoaki Iwaya2, Hideto Miyake3, Tetsuya Takeuchi2, Satoshi Kamiyama2, Isamu Akasaki2 (1.Asahi-Kasei, 2.Meijo Univ., 3.Mie Univ.)

Keywords:laser diode, ultraviolet, AlGaN

UV LDは材料加工、医療等様々な用途での応用が期待されている。昨年我々は波長298 nmのAlGaN UVB LDを実現した報告を行ったが、閾値電流密度 Jthは25 kA/cm2と高くその低減が課題である。Jthを低減するには各物理パラメータを算出し、因子を分解することが重要である。本研究では、閾値電流密度の共振器長依存性の理論式に関わる各種パラメータをシミュレーション、光学測定、電気特性を解析することで算出したので報告する。