[16p-Z33-1~14] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[16p-Z33-1] 六方晶窒化ホウ素上におけるFe₃O₄薄膜の成長と評価

〇玄地 真悟¹、大坂 藍¹、服部 梓¹、渡邊 賢司²、谷口 尚²、田中 秀和¹ (1.阪大産研、2.物材機構)

キーワード：金属-絶縁体相転移、六方晶窒化ホウ素、薄膜成長

2次元層状物質の六方晶窒化ホウ素（hBN）の上で110 K付近で金属-絶縁体相転移を示すFe₃O₄をパルスレーザー堆積法により成長させ、その結晶性と相転移特性をラマン分光法と電気伝導特性により評価した。その結果、hBN上Fe₃O₄は室温で明瞭なラマンピークを示し、マイクロ細線に加工後、電気伝導特性の評価の結果、3桁程度の相転移に伴う抵抗変化が観測された。この結果はhBNの基板としての有用性を示すものである。