[17a-P05-1~10] 6.3 Oxide electronics

[17a-P05-7] Dopant ratio control in (La,Rh):SrTiO₃ thin films

〇(M2)Shuji Ezura¹, Taizo Mori¹, Mikk Lippmaa¹ (1.Univ. of Tokyo, ISSP)

Keywords:co-doped SrTiO3 thin film, pulsed laser deposition, photoelectrochemical water splitting

様々なカチオンを共ドープした酸化物が高い光触媒活性を持つことから注目されているが、そのドーパント比をコントロールすることができればさらなる光触媒活性の向上が見込まれる。本研究ではLa:SrTiO3とRh:SrTiO3の二つのターゲットを用いたPLDでの(La,Rh):SrTiO3薄膜作製におけるドーパント比のコントロールを試みた。サイクリックボルタンメトリーを用いた光触媒活性評価から、この方法でのドーパント比のコントロールが可能であることが示唆された。