[17a-P05-1~10] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[17a-P05-7] (La,Rh):SrTiO₃薄膜におけるドーパント比のコントロール

〇(M2)江面 周士¹、森 泰蔵¹、リップマー ミック¹ (1.東大物性研)

キーワード：共ドープSrTiO3薄膜、パルスレーザー堆積法、光電気化学水分解

様々なカチオンを共ドープした酸化物が高い光触媒活性を持つことから注目されているが、そのドーパント比をコントロールすることができればさらなる光触媒活性の向上が見込まれる。本研究ではLa:SrTiO3とRh:SrTiO3の二つのターゲットを用いたPLDでの(La,Rh):SrTiO3薄膜作製におけるドーパント比のコントロールを試みた。サイクリックボルタンメトリーを用いた光触媒活性評価から、この方法でのドーパント比のコントロールが可能であることが示唆された。