[17a-Z04-1~11] 1.1 Interdisciplinary and General Physics

[17a-Z04-5] Study on Cleaning Method used for Recycling SiC Focus Ring

〇Tetsuyuki Matsumoto^2,1, Tetsuya Homma² (1.Kioxia, 2.Shibaura-it)

Keywords:Hot isostatic pressing, SiC, Atmospheric burning

CVD プロセスを使用せずにSiC をリサイクルする新しい方法を開発したが、SiC 表面のフロ
ロカーボン膜中に金属残留物が残り、RIE 処理後、ウエハー上に付着する問題が発生している。そのため、SiC表面を酸化し、フッ化水素酸洗浄で酸化膜を除去することで、同時に金属残留物も除去できる。