[17a-Z10-1~10] 3.15 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス

[17a-Z10-1] 微結晶シリコンを用いた光位相シフタ導波路の設計と製作

〇(M2)中島 雪暢¹、庄司 雄哉¹、武井 亮平²、水本 哲弥¹、亀井 利浩² (1.東工大、2.産総研)

キーワード：シリコンフォトニクス、光位相シフタ

オンチップ光インターコネクトの実現には光配線をエンドプロセスでLSI上に三次元集積することが有効であるが、温度の制約がある。そこで本研究では低温堆積可能な微結晶シリコンを用いた光位相シフタを提案する。堆積と同時にドーピングできるという特徴を活用し、従来の水平方向のpin接合による位相シフタではなく積層型のpin接合を持ち、かつ上部電極から光分布を遠ざけるための溝がついた導波路構造を設計・製作したため報告する。