2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[17a-Z15-1~7] 6.2 カーボン系薄膜

2021年3月17日(水) 10:00 〜 11:45 Z15 (Z15)

赤坂 大樹(東工大)

11:30 〜 11:45

[17a-Z15-7] シアナミド修飾されたグラファイト状窒化炭素薄膜の合成

赤池 幸紀1、細貝 彩子1、片桐 千帆1、嶋村 彰紘1、浅川 大樹1、中西 大耀1、細貝 拓也1、永島 裕樹1 (1.産総研)

キーワード:グラファイト状窒化炭素、化学修飾、高配向薄膜

可視光に応答する光触媒として注目されるグラファイト状窒化炭素(GCN)は、薄膜化することで電気化学セルなどへの応用が見込まれる。本研究では、ガラス基板上に形成したGCN薄膜にシアナミド基が導入されることを報告する。メロンとNaCl混合物を加熱した試料の反応機構の考察を基に、薄膜中でシアナミドが形成される機構を議論する。