[17a-Z21-1~6] 11.2 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長

[17a-Z21-3] フッ素フリーMOD法RE123薄膜における積層欠陥制御と高J_c化

〇金泉 莉大¹、元木 貴則¹、小塩 剛史¹、瀬川 雄大¹、小澤 美弥子¹、中村 新一²、本田 元気³、永石 竜起³、下山 淳一¹ (1.青学大理工、2.TEP、3.住友電工)

キーワード：超伝導

これまでの研究で、水蒸気を含んだ雰囲気下で熱処理することでFF-MOD法で作製したRE123薄膜中に積層欠陥が生成することと低磁場下でのJ_c特性が改善されることを明らかにしてきた。最近の研究では、Y123薄膜の200℃以下の低温後熱処理を系統的に検討した。その結果、低温でも長時間後熱処理により積層欠陥が導入されることがわかった。