[17a-Z26-1~9] 13.5 デバイス／配線／集積化技術

[17a-Z26-9] 極薄無電解NiB膜のめっき前処理におけるNH₂化とバリア性能評価

〇齊藤 丈靖¹、林藤 壮史¹、岡本 尚樹¹、北島 彰² (1.阪府大院工、2.阪大ナノテク設備拠点)

キーワード：NiBめっき