[17p-P08-1~8] 23.1 合同セッションN「インフォマティクス応用」

[17p-P08-3] Si表面上吸着再構成構造におけるRHEEDパターンの機械学習解析

〇(B)吉成 朝子¹、永村 直佳^1,2,3、岩崎 悠真^3,4,5、小嗣 真人¹ (1.東理大基礎工、2.物材機構、3.JST-さきがけ、4.NEC、5.産総研)

キーワード：機械学習、反射高速電子線回折、表面超構造

Si表面超構造による特異な物性の応用には，構造の作り分けと成膜プロセスの最適化が重要であるが，反射高速電子線回折(RHEED)による定量的な評価は難しい。そこで，Si表面にInを蒸着する過程で得られたRHEED画像に，教師なし機械学習を用いて解析を行った。階層的クラスタリングによって前提知識なく表面構造変化を把握し，非負値行列因子分解から各構造の最適蒸着時間の見積もりを自動的に行うことが出来た。