2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.1 作製・構造制御

[17p-P09-1~11] 12.1 作製・構造制御

2021年3月17日(水) 16:00 〜 16:50 P09 (ポスター)

16:00 〜 16:50

[17p-P09-2] シルセスキオキサン蒸着膜の重合に伴う膜物性変化

小川 大和1、臼井 博明1 (1.農工大院工)

キーワード:真空蒸着

かご型シルセスキオキサン(POSS)は、有機化合物と無機化合物が分子レベルで組み合わさった有機-無機ハイブリッド材料であり、柔軟性や可溶性などの有機材料の特徴と耐熱性や硬さなどの無機材料の特徴を合わせ持つ。本研究ではFig.1に示すアクリルモノマーiBuPOSSMAを蒸着して薄膜を作製し、製膜時の電子照射による重合を試みるとともに高分子化が膜物性に与える影響を調べた。