[17p-Z13-1~8] 1.6 超音波

[17p-Z13-3] Pt結晶膜上へのTa₂O₅圧電薄膜の成膜と評価

〇(B)松浦 佳祐¹、鈴木 雅視¹、垣尾 省司¹、小寺 正徳²、船窪 浩² (1.山梨大、2.東工大)

キーワード：五酸化タンタル、エピタキシャル成長、弾性表面波

RFマグネトロンスパッタリング装置を用いて， Pt/Si基板上に圧電性Ta₂O₅薄膜を成膜し，配向性，SAW特性，BAW特性を評価した．
XRDよりPt/Si上への成膜では，Si上への成膜には現れないピークが観測され，Ptの格子面を感受してTa₂O₅薄膜がエピタキシャル成長していると考えられる．しかし，この試料のHBARの応答から求めた電気機械結合係数が，Ptを感受していない試料より小さくなった．