2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

10 スピントロニクス・マグネティクス » 10.2 スピン基盤技術・萌芽的デバイス技術

[17p-Z19-1~7] 10.2 スピン基盤技術・萌芽的デバイス技術

2021年3月17日(水) 13:15 〜 15:00 Z19 (Z19)

好田 誠(東北大)

14:15 〜 14:30

[17p-Z19-5] スピントルク強磁性共鳴法によるBi/Ni二層膜におけるスピン流電流変換物性の測定

福本 直輝1、松島 真之1、坂本 祥哉2、重松 英1、大島 諒1、安藤 裕一郎1、三輪 真嗣2、白石 誠司1 (1.京大工、2.東大物性研)

キーワード:スピントロニクス、ビスマス

我々はスピントルク強磁性共鳴測定を用いてBi/Ni二層膜におけるスピン流電流変換効率を調べた。Bi層とNi層は単結晶として結晶性を保ったまま製膜されている。Biの膜厚が異なる試料群を測定したところ、先行研究と比較して大きな変換効率が得られた。