2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[17p-Z28-1~14] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2021年3月17日(水) 13:30 〜 18:00 Z28 (Z28)

尾崎 信彦(和歌山大)、海津 利行(神戸大)、富永 依里子(広島大)、尾鍋 研太郎

14:30 〜 14:45

[17p-Z28-3] 結晶成長温度の調節によるInGaPにおける表面モフォロジーとキャリア寿命の両立

浅見 明太1、渡辺 健太郎2、中野 義昭1、杉山 正和1,2 (1.東大工、2.東大先端研)

キーワード:InGaP、太陽電池、InGaP/GaAsヘテロ接合

InGaP/GaAsヘテロ構造太陽電池では、キャリア寿命の長い高温成長InGaP上に結晶品質の高いGaAsを成長することが重要な課題である。高温成長InGaPには表面平坦性が乏しいという問題点がある。本研究は、高温成長InGaP上に10 nmの低温成長InGaPを成長した構造を提案し、結晶品質の高いGaAsをキャリア寿命の長いInGaP上に成長できることを明らかにした。