[17p-Z31-1~15] 3.11 フォトニック構造・現象

[17p-Z31-2] 二重格子フォトニック結晶レーザーにおける例外点近傍のバンド構造の制御－理論－

〇井上 卓也¹、吉田 渓介¹、吉田 昌宏¹、Gelleta John¹、野田 進¹ (1.京大院工)

キーワード：フォトニック結晶、フォトニック結晶レーザー、例外点

我々は、フォトニック結晶レーザー(PCSEL)の大面積・高輝度化の実現に向けて、二重格子フォトニック結晶の格子点設計の深化・最適化を進めており、面内180度回折と90度回折の完全な打ち消し合いを利用することで、1 mmΦでの単一モード動作の実証に成功している。さらに、上記の設計により例外点が形成されるなど、非エルミート系の物理とも関連が深いことを数値計算により見出している。今回、Γ点からの波数ずれ、および 非エルミート成分を考慮した理論解析を行い、二重格子PCSELにおける例外点形成条件を定式化するとともに、裏面反射位相の調整により例外点近傍のバンド構造の制御が可能であることを見出したので報告する。