2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.11 フォトニック構造・現象

[17p-Z31-1~15] 3.11 フォトニック構造・現象

2021年3月17日(水) 13:15 〜 17:30 Z31 (Z31)

太田 泰友(東大)、角倉 久史(NTT)、高橋 和(大阪府立大)

14:00 〜 14:15

[17p-Z31-4] グラフェン装荷フォトニック結晶における例外点の検討

大塚 秀太郎1,2、上村 高広1,2、養田 大騎2、森竹 勇斗1,3、納富 雅也1,2,4 (1.東工大理、2.NTT BRL、3.JSTさきがけ、4.NTT NPC)

キーワード:フォトニック結晶、グラフェン、例外点

PT対称性を持つ非エルミート光学系の研究が近年盛んだが、この系の実現にグラフェンを用いた例は少ない。今回、グラフェンを装荷したフォトニック結晶を用いて、固有偏光状態に例外点をまたぐPT相転移を起こす方法を電磁界解析で見出した。単位格子に誘電体ロッドを二つ持つフォトニック結晶の片方のロッドにグラフェンを装荷すると、カイラリティを持つ例外点が形成され、固有偏光状態が一つの円偏光状態に近づく様子を確認した。