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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[18a-Z13-1~11] 6.2 カーボン系薄膜

2021年3月18日(木) 09:30 〜 12:30 Z13 (Z13)

岩崎孝之(東工大)、徳田規夫(金沢大)

09:45 〜 10:00

[18a-Z13-2] Bイオン注入によるCVDダイヤモンド薄膜への低補償率p型伝導層形成

〇関裕平¹、川﨑壮¹、星野靖¹、中田穣治¹ (1.神奈川大理)

キーワード：イオン注入、CVDダイヤモンド薄膜、電気特性評価