[18p-Z15-1~15] 6.4 Thin films and New materials

△ [18p-Z15-12] Fabrication of CrN/NiO superlattice structures towards realizing Ni-N bonds

〇Daichi Sato¹, Akira Ohtomo^1,2, Takuto Soma¹, Ryo Yokoyama¹ (1.Tokyo Tech., 2.MCES.)

Keywords:Thin film, Oxide, Nitride

3d遷移金属窒化物は，いわゆるIII-V族半導体と異なり，スピン配列や電子相関に起因する興味深い物性を示す．例えば，Ⅵ族窒化物である立方晶系CrNは，高い移動度と構造相転移を伴う常磁性絶縁体-反強磁性金属転移を示すことが知られている ．一方で，Niをはじめとする後周期の3d遷移金属と窒素の結合は，反結合性のp-d軌道の電子数が高いため極めて不安定である．そこで本研究では，Niを窒化することを目的として，ともに岩塩型構造をとるCrNとNiOの人工超格子構造を作製したので報告する．