[18p-Z15-1~15] 6.4 Thin films and New materials

△ [18p-Z15-4] Mechanical Properties of Low Refractive Index SiO₂ Optical Thin Films by Sputtering and Electron Beam Evaporation

〇(B)Hiroyasu Kato¹, Shigeharu Matumoto², Hiroshi Murotani¹ (1.Tokai Univ., 2.SHINCRON CO.LTD.)

Keywords:optical thin film, mechanical properties

光学薄膜の屈折率を下げる方法として膜の密度を下げることにより膜の有効屈折率を下げている．また従来の低屈折率膜は実用上十分な機械的強度を得ることができない．我々の研究室での先行研究では，複合成膜手法を用いて従来の低屈折率膜とは異なる実用的な機械的強度を持つ低屈折率光学薄膜の作製に成功している． 本研究では複合成膜により成膜された低屈折率SiO₂光学薄膜の機械的特性を評価することを目的とした.