The 68th JSAP Spring Meeting 2021

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.1 Plasma production and diagnostics

[18p-Z17-1~20] 8.1 Plasma production and diagnostics

Thu. Mar 18, 2021 1:30 PM - 7:00 PM Z17 (Z17)

Hiroshi Akatsuka(Tokyo Tech), Kentaro Tomita(Hokkaido Univ.), Manabu Tanaka(Kyushu Univ.)

5:30 PM - 5:45 PM

[18p-Z17-15] Detection of vibrational excited states of N2 in a miniature electron cyclotron resonance plasma source by threshold ionization mass spectrometry

Shinnosuke Hosoyama1, Koichi Sasaki1 (1.Hokkaido Univ.)

Keywords:vibrational excited states, threshold ionization mass spectrometry, electron cyclotron resonance plasma

分子の振動状態を励起すると、触媒表面への化学吸着確率が向上することが報告されている。これは、プラズマの生成によって触媒表面での反応速度が向上する「プラズマ触媒」のメカニズムである可能性がある。触媒反応における振動励起状態の寄与を定量的に調べるためには、振動励起状態の密度や振動温度を簡単に測定する方法が必要である。本研究では、N2の振動励起状態の検出に対する閾値イオン化質量分析法の適用性を検討した。