[18p-Z18-1~16] 8.5 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

[18p-Z18-9] Decomposition of terephthalic acid by pulsed discharge plasma exposure (4) - Estimation of OH production rate by using one-dimension model -

〇Kazuhiro Takahashi¹, Kohki Satoh¹ (1.Muroran I. T.)

Keywords:Terephthalic acid, OH radical, Plasma exposed water

テレフタル酸(TA)水溶液に水上パルス放電を照射したときのTAおよび副生成物の濃度を1次元モデルにおけるレート方程式を用いて計算し，実測値にフィッテングさせることでOHラジカルの生成レートを推定した。OHラジカルの生成レートは14.0 nmol/sとなり，0次元モデルにおける推定値とほぼ同じ値となった。また，この推定値はヒドロキシテレフタル酸の生成量とTAがOHラジカルを捕捉する割合から求める方法などと比べて高いである。