2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[18p-Z18-1~16] 8.5 プラズマ現象・新応用・融合分野

2021年3月18日(木) 13:30 〜 17:45 Z18 (Z18)

伊藤 剛仁(東大)、高島 圭介(東北大)

15:45 〜 16:00

[18p-Z18-9] パルス放電照射によるテレフタル酸分解(4) -1次元モデルを用いたOH生成レートの推定-

高橋 一弘1、佐藤 孝紀1 (1.室蘭工大)

キーワード:テレフタル酸、OHラジカル、プラズマ照射水

テレフタル酸(TA)水溶液に水上パルス放電を照射したときのTAおよび副生成物の濃度を1次元モデルにおけるレート方程式を用いて計算し,実測値にフィッテングさせることでOHラジカルの生成レートを推定した。OHラジカルの生成レートは14.0 nmol/sとなり,0次元モデルにおける推定値とほぼ同じ値となった。また,この推定値はヒドロキシテレフタル酸の生成量とTAがOHラジカルを捕捉する割合から求める方法などと比べて高いである。