1:30 PM - 1:45 PM
[18p-Z20-1] Influence of precursor gas during n-type amorphous Si deposition on MAPbI3
Keywords:Perovskite solar cells, Cat-CVD, Amorphous silicon
ペロブスカイト太陽電池の電子輸送層への使用を目的に、MAPbI3上へのCat-CVDでのn-a-Si堆積時の原料ガスの影響を調査した。触媒体を1800 °Cに加熱し、H2のみ、PH3のみ、SiH4のみを流入させた。PH3およびH2流入時は、触媒分解で生成した水素ラジカルがMAPbI3と反応し、一部がPbI2に変性した。SiH4のみで処理を行った試料では、MAPbI3の上にa-Si膜が堆積されるため、水素ラジカルとの反応を抑えられることを確認した。