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[18p-Z20-1] MAPbI3へのn型非晶質Si堆積時の原料ガスの影響
キーワード:ペロブスカイト太陽電池、Cat-CVD、アモルファスシリコン
ペロブスカイト太陽電池の電子輸送層への使用を目的に、MAPbI3上へのCat-CVDでのn-a-Si堆積時の原料ガスの影響を調査した。触媒体を1800 °Cに加熱し、H2のみ、PH3のみ、SiH4のみを流入させた。PH3およびH2流入時は、触媒分解で生成した水素ラジカルがMAPbI3と反応し、一部がPbI2に変性した。SiH4のみで処理を行った試料では、MAPbI3の上にa-Si膜が堆積されるため、水素ラジカルとの反応を抑えられることを確認した。