The 68th JSAP Spring Meeting 2021

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Oral presentation

21 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices" » 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

[18p-Z33-1~17] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

Thu. Mar 18, 2021 1:00 PM - 6:00 PM Z33 (Z33)

Tetsuya Yamamoto(Kochi Univ. of Tech.), Keisuke Ide(Tokyo Tech), Kohei SHIMA(Tohoku Univ.)

2:45 PM - 3:00 PM

[18p-Z33-6] Electrical and optical properties of MgZnO transparent electrode materials deposited by high temperature sputtering

〇(M1)Taichi Matsubara1, Maki Kushimoto1, Hirotaka Watanabe2, Yuta Furusawa2, Syugo Nitta2, Yoshio Honda2,3,4, Hiroshi Amano2,3,5 (1.Nagoya Univ., 2.IMaSS, 3.VBL, 4.IAR, 5.Akasaki RC)

Keywords:UV-LED, Transparent electrode, Sputtering

AlGaN系深紫外線発光ダイオードは,光取り出し効率(LEE)が非常に低いため高出力化が困難である.LEEの改善には,透明電極が有用であるが従来のITOは紫外光に対して不透明である.そこで,深紫外光が透過可能な酸化物材料MgZnOに着目した.
本報告では,低い抵抗値を維持したまま,MgZnOの深紫外領域における透過率向上を目的とし,成膜時の基板温度について検討を行った.