2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[19a-Z14-1~11] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2021年3月19日(金) 09:00 〜 12:00 Z14 (Z14)

高橋 竜太(日大)

10:45 〜 11:00

[19a-Z14-7] 新強磁性半導体:岩塩構造希土類単酸化物TbO

佐々木 智視1、岡 大地1、神永 健一2、齋藤 大地1、阿部 展人1、清水 宙一1、福村 知昭1 (1.東北大理、2.東北大院工)

キーワード:スピントロニクス、強磁性半導体、磁性薄膜

パルスレーザー堆積法を用いてTbOエピタキシャル薄膜の合成に初めて成功し、TbOが高いキュリー温度TC = 231 Kおよび最近発見された高温強磁性半導体GdOのおよそ倍の大きな自発磁化2.4 μBをもつ強磁性半導体であることを発見した。本講演においては、TbOエピタキシャル薄膜の磁気特性および光学特性について議論を行う予定である。