2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[19a-Z14-1~11] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2021年3月19日(金) 09:00 〜 12:00 Z14 (Z14)

高橋 竜太(日大)

11:00 〜 11:15

[19a-Z14-8] 組成傾斜を利用したNiCo2O4薄膜の磁気特性制御

鈴木 郁美1、菅 大介1、島川 祐一1 (1.京大化研)

キーワード:スピネル酸化物、フェリ磁性体、エピタキシャル薄膜