2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[19a-Z25-1~8] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2021年3月19日(金) 09:30 〜 11:45 Z25 (Z25)

塩島 謙次(福井大)

09:45 〜 10:00

[19a-Z25-2] GaN/ScAlN/GaNヘテロ接合バリアダイオードの電気的特性評価

前田 拓也1、Casamento Joseph1、野本 一貴1、Xing Huili Grace1、Jena Debdeep1 (1.Cornell大学)

キーワード:窒化スカンジウムアルミニウム、ヘテロ接合、窒化ガリウム

Scandium Aluminum Nitride (ScAlN)は,高い圧電係数および高いCurie温度を有しており,高温用圧電センサーやRFフィルターの材料として期待されている.また,近年,明瞭な強誘電性を示すことが複数の機関より報告されている.これらの魅力的な物性を持つScAlNをGaNと組み合わせることで,例えば,ScAlN/GaN界面において分極誘起2DEGの増強/スイッチングが期待されるなど,圧電・強誘電性を活かした新機能デバイスが作製できる可能性がある.しかし,ScAlNの物性やGaNとのヘテロ接合の特性についてまだ詳細な研究がされていない.そこで,本研究では,GaN/ScAlN/GaNヘテロ接合の容量特性とキャリア輸送特性を調べたので報告する.