[19p-P01-1~23] 17 Nanocarbon Technology(Poster)

[19p-P01-14] Simple Method for Determining Thickness of Atomic Layer Materials

〇Hikari Tomori¹, Miki Miyazaki¹, Akinobu Kanda¹ (1.Univ. Tsukuba)

Keywords:Film thickness determination, MoS2

スコッチテープ法と薄膜転写・積層手法の確立により、グラフェンを始めとする様々な原子層物質を組み合わせた積層構造が盛んに研究されている。このような研究では膜厚は重要なパラメータであるため、試料の正確な層数決定が求められる。従来は原子間力顕微鏡（A F M）、顕微ラマン分光、光学顕微鏡像が原子層膜の層数決定に用いられてきた。A F Mとラマン分光では正確な膜厚が決定できるものの、大気中で不安定な物質には使えないという欠点がある。一方、光学顕微鏡像を用いる方法では、顕微鏡をグローブボックス中に設置することにより大気中で不安定な物質にも適用できる。しかし、この方法では基板と試料のコントラスト差を利用しているため、撮影条件によってコントラスト差が変動し、層数決定に任意性が出てくる。本研究では、このような撮影条件による任意性を排除し、光学顕微鏡による観察のみで簡便に層数を決定する手法を開発した。