2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

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[19p-P02-1~22] 17 ナノカーボン(ポスター)

2021年3月19日(金) 14:00 〜 14:50 P02 (ポスター)

14:00 〜 14:50

[19p-P02-8] アルコールCVD法を用いたGaN上へのグラフェン直接成長

〇(M1)薮田 翔平1、毛利 真一郎1、荒木 努1 (1.立命館大 理工)

キーワード:グラフェン、窒化物半導体、結晶成長

GaNとグラフェンを接合したデバイスの研究が進められているが、転写時の不純物が問題となっている。そこで、本研究では、アルコールCVD法を用いてGaN基板上に直接グラフェン成長を試みた。使用した基板はGaN(0001)テンプレート(GaN/sapphire)とGaNテンプレートを銅箔で包んだもの2種類使用した。ラマン分光装置によりグラフェン構造の成長が確認できた。GaNテンプレートのみと比較し、銅箔で包んだ基板が相対的にDモードを抑えることができた。