[19p-Z02-1~10] CS.7 Code-sharing Session of 8.3 & 9.2 & 13.6

[19p-Z02-6] Deposition of GeSn thin film by plasma sputtering and its application to Li-ion batteries

〇(M1)Kenta Nagai¹, Eito Takada¹, Junki Hayashi¹, Yuma Habu¹, Giichiro Uchida^1,2 (1.Meijo Univ., 2.Ene. Inst. Meijo Univ.)

Keywords:Plasma, Li-ion batteries, Nanoparticles

本研究では高容量と長寿命の両特性を実現するために、高容量Ge半導体に高い電気導電率を有するSn金属を添加した負極材料をRFプラズマスパッタリング法を用いて作製した。スパッタリングターゲットのGe/Sn比率とプラズマ投入電力を実験パラメータとして薄膜を作製し、その膜物性とLiイオン電池容量を評価した。講演では薄膜のGe/Sn比率、ナノ構造形態とLiイオン電池特性の相関について議論する予定である。