2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

[19p-Z08-1~14] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

2021年3月19日(金) 13:15 〜 17:00 Z08 (Z08)

岩見 健太郎(農工大)、久保 敦(筑波大)

14:30 〜 14:45

[19p-Z08-6] 誘電体メタサーフェスの大面積作製の検討:ナノインプリントによる高屈折率樹脂ナノ構造の直接パターニング

鴻野 晃洋1、宮田 将司1、橋本 俊和1、小松 武志1 (1.NTT先デ研)

キーワード:ナノインプリント、メタサーフェス、高屈折率樹脂

誘電体ナノ構造から構成される光メタサーフェスは、光の位相や偏光状態、波長分散などに対して多様な制御性を有している。一方、作製においては、電子ビームリソグラフィとエッチングといった半導体プロセスを用いており、低コストかつ大面積の作製が困難であった。そこで我々は、誘電体メタサーフェスの大面積作製にむけて、光ナノインプリントによる誘電体ナノ構造の直接パターニングを検討したので報告する。