2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[19p-Z15-1~11] 6.4 薄膜新材料

2021年3月19日(金) 13:30 〜 16:15 Z15 (Z15)

村岡 祐治(岡山大)、長谷川 哲也(東大)

15:00 〜 15:15

[19p-Z15-7] スズ酸窒化物(SnOxNy)薄膜の電子輸送特性

土井 雅人1、廣瀬 靖1、長谷川 哲也1 (1.東大院理)

キーワード:酸窒化物、薄膜、スズ化合物

スズ酸窒化物(SnON)の半導体光電極や光センサーへの応用を見据えて電子輸送特性の詳細な評価と制御を試みた。反応性スパッタリング法によりSnON薄膜をMgO(100)、YSZ(111)基板上にエピタキシャル成長させた。作製した薄膜は全て1020 cm-3台の高いキャリア濃度を示すn型半導体で、エピタキシャル薄膜の電子移動度は先行研究(~30 cm2V-1s-1)より高い移動度を示した。