2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[19p-Z27-1~14] 15.4 III-V族窒化物結晶

2021年3月19日(金) 13:00 〜 17:00 Z27 (Z27)

関口 寛人(豊橋技科大)、出浦 桃子(東大)、上杉 謙次郎(三重大)

16:15 〜 16:30

[19p-Z27-12] GaN MOVPE成長におけるC取込機構解明に向けたTMGaとTEGaの分解反応の違いの解析

叶 正1、新田 州吾1、渡邉 浩崇1、本田 善央1,2、Markus Pristovsek1、天野 浩1,3,4,5 (1.名大 IMaSS、2.名大 IAR、3.名大 ARC、4.名大 VBL、5.NIMS)

キーワード:気相反応、炭素

パワーデバイスなどで使用される成長温度1000℃付近においてTMGaとTEGaでの異なる原料でのC混入濃度の比較した報告はない。本研究では、まず成長温度1000℃付近において異なる原料でGaNを成長させてC混入濃度の比較を行った。さらに、飛行時間型質量分析(TOF-MS)を用いて気相中の精密な質量分析を行うことC濃度と原料の分解反応について調査を行った。