2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[19p-Z27-1~14] 15.4 III-V族窒化物結晶

2021年3月19日(金) 13:00 〜 17:00 Z27 (Z27)

関口 寛人(豊橋技科大)、出浦 桃子(東大)、上杉 謙次郎(三重大)

16:45 〜 17:00

[19p-Z27-14] 高温有機金属気相成長装法におけるAlN成長の気相反応抑制

永松 謙太郎1,2、津田 翔太2、青野 零弥2、宮川 学2、揚田 侑哉2、平山 秀樹1,3、髙島 祐介2、直井 美貴1,2 (1.徳大ポストLEDフォトニクス研究所、2.徳大理工、3.理研)

キーワード:深紫外発光素子、結晶成長

Al源であるトリメチルアルミニウム(TMA)とN源であるアンモニアが原料輸送課程で反応する気相反応によりアダクトが形成され、成長速度の低下、転位の形成などを引き起こす。この反応は基板温度が高くなると顕著になる。本研究では、有機金属気相成長装置にジェットエンジンの燃焼器の機構を導入することで乱流を起こすことなく線流速の高いガスフローを実現し、気相反応の抑制に成功した。