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全日程
2022年9月20日(火)
2022年9月21日(水)
2022年9月22日(木)
2022年9月23日(金)
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シンポジウム
【一般公開】人を拡張する新しいインターフェースの最前線
【一般公開】就活生必見！私は応物で就職を決めました ～ 急成長する半導体業界で働く我々からのメッセージ ～
未利用エネルギーと応用物理への期待
科学教育の人材育成および教育の取り組みとその活性化ー東北地区ー
コロナ禍における放射線計測技術の最新動向
次世代テラヘルツ通信に向けた無線・光融合のデバイス・材料技術
最先端で活躍するガラスとガラス状態～2022 年国際ガラス年 IYOG 記念シンポジウム～
羽ばたくベンチャーとそれを支える仕組み ～フォトニクスが生み出すイノベーションと新産業創出V～
群知能の新展開：生物・ロボット・材料の創発が生み出す知
先端計測と機能性酸化物研究の共進化
細胞運命を制御する応用物理：プラズマ・バイオ研究の融合による革新
アカデミア・企業から見た熱電研究の最前線(MI駆動型研究からIoT応用まで)
人工嗅覚エレクトロニクス・インフォマティクスの研究最前線と展望
スピントロニクス研究のトレンドと今後の展望 ～スピントロニクス研究会20周年記念シンポジウム～
【現地会場のみでの開催】ペロブスカイトによる次世代材料の創成と応用展開
次世代ICTと未来医療を支える神経科学・神経工学・脳型コンピューティング
【現地会場のみでの開催】ヘテロ材料が拓く新機能
ワイドバンドギャップ半導体MOS界面科学の最前線
特色ある分光評価法による半導体発光材料・光物性再訪：新しい展開を目指して
半導体を用いた量子情報技術の最前線
グリーン化に挑戦する半導体製造・プロセス技術
エネルギーハーベスティングの新展開
ガラス系イオン伝導体の最前線 ～2022 年国際ガラス年 IYOG 記念シンポジウム～
六方晶窒化ホウ素の新機能の発見から現在まで～研究の現状と展望、応用可能性～
トポロジカルフォノニクス/メカニクスとその周辺科学の展開
計測インフォマティクスの革新と応用
インマテリアルAIコンピューティング
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FS フォーカストセッション「AIエレクトロニクス」
FS.1 フォーカストセッション「AIエレクトロニクス」
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1 応用物理学一般
1.1 応用物理一般・学際領域
1.2 教育
1.3 新技術・複合新領域
1.4 エネルギー変換・貯蔵・資源・環境
1.5 計測技術・計測標準
1.6 超音波
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2 放射線
2 放射線(ポスター)
2.1 検出器デバイス開発
2.2 放射線物理一般・放射線応用・発生装置・新技術
2.4 医用応用
2.5 放射線誘起蛍光体
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3 光・フォトニクス
3.1 光学基礎・光学新領域（旧3.2「材料・機器光学」と統合）
3.2 情報フォトニクス・画像工学（旧3.3）
3.3 生体・医用光学（旧3.4）
3.4 レーザー装置・材料（旧3.5）
3.5 超高速・高強度レーザー（旧3.6）
3.6 レーザープロセシング（旧3.7）
3.7 光計測技術・機器（旧3.8）
3.8 テラヘルツ全般（旧3.9）
3.9 光量子物理・技術（旧3.10）
3.10 フォトニック構造・現象（旧3.11）
3.11 ナノ領域光科学･近接場光学（旧3.12）
3.12 半導体光デバイス（旧3.13）
3.13 光制御デバイス・光ファイバー（旧3.14）
3.14 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス（旧3.15）
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4 JSAP-Optica-SPP Joint Symposia 2022
4.1 Plasmonics and Nanophotonics
4.2 Photonics Devices, Photonic Integrated Circuit and Silicon Photonics
4.3 Lasers and laser materials processing
4.6 Terahertz Photonics
4.7 Quantum Optics and Nonlinear Optics
4.8 Optica Special Lecture
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6 薄膜・表面
6.1 強誘電体薄膜
6.2 カーボン系薄膜
6.3 酸化物エレクトロニクス
6.4 薄膜新材料
6.5 表面物理・真空
6.6 プローブ顕微鏡
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7 ビーム応用
7 ビーム応用(ポスター)
7.1 X線技術
7.2 電子ビーム応用
7.3 微細パターン・微細構造形成技術
7.4 量子ビーム界面構造計測
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8 プラズマエレクトロニクス
8 プラズマエレクトロニクス(ポスター)
8.1 プラズマ生成・診断
8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理
8.3 プラズマナノテクノロジー
8.4 プラズマライフサイエンス
8.5 プラズマ現象・新応用・融合分野
8.6 Plasma Electronics English Session
8.7 プラズマエレクトロニクス分科内招待講演
8.8 プラズマエレクトロニクス賞受賞記念講演
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9 応用物性
9.1 誘電材料・誘電体
9.2 ナノ粒子・ナノワイヤ・ナノシート
9.3 ナノエレクトロニクス
9.4 熱電変換
9.5 新機能材料・新物性
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10 スピントロニクス・マグネティクス
10 スピントロニクス・マグネティクス(ポスター)
10.1 新物質・新機能創成（作製・評価技術）
10.2 スピン基盤技術・萌芽的デバイス技術
10.3 スピンデバイス・磁気メモリ・ストレージ技術
10.4 半導体・トポロジカル・超伝導・強相関スピントロニクス
10.5 磁場応用
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11 超伝導
11 超伝導(ポスター)
11.1 基礎物性
11.2 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長
11.3 臨界電流，超伝導パワー応用
11.4 アナログ応用および関連技術
11.5 接合，回路作製プロセスおよびデジタル応用
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12 有機分子・バイオエレクトロニクス
12.1 作製・構造制御
12.2 評価・基礎物性
12.3 機能材料・萌芽的デバイス
12.4 有機EL・トランジスタ
12.5 有機太陽電池
12.6 ナノバイオテクノロジー
12.7 医用工学・バイオチップ
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13 半導体
13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション
13.2 探索的材料物性・基礎物性
13.3 絶縁膜技術
13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術
13.5 デバイス／配線／集積化技術
13.6 ナノ構造・量子現象・ナノ量子デバイス
13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価
13.8 光物性・発光デバイス
13.9 化合物太陽電池
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15 結晶工学
15.1 バルク結晶成長
15.2 II-VI族結晶および多元系結晶
15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎
15.4 III-V族窒化物結晶
15.5 IV族結晶，IV-IV族混晶
15.6 IV族系化合物（SiC）
15.7 結晶評価，不純物・結晶欠陥
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16 非晶質・微結晶
16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス
16.2 エナジーハーベスティング
16.3 シリコン系太陽電池
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17 ナノカーボン
17 ナノカーボン(ポスター)
17.1 カーボンナノチューブ，他のナノカーボン材料
17.2 グラフェン
17.3 層状物質
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21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」(ポスター)
21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
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22 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」
22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」
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23 合同セッションN「インフォマティクス応用」
23.1 合同セッションN「インフォマティクス応用」
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CS コードシェアセッション
【CS.1】 2.3 加速器質量分析・加速器ビーム分析 、7.5 イオンビーム一般のコードシェア
【CS.2】 3.2 情報フォトニクス・画像工学（旧3.3）、4.4 Information Photonicsのコードシェア
【CS.3】 3.4 レーザー装置・材料（旧3.5）、3.13 光制御デバイス・光ファイバー（旧3.14）のコードシェア
【CS.4】 3.10 フォトニック構造・現象（旧3.11）、3.11 ナノ領域光科学･近接場光学（旧3.12）のコードシェア
【CS.5】 3.10 フォトニック構造・現象（旧3.11）、3.12 半導体光デバイス（旧3.13）のコードシェア
【CS.6】 4.5 Nanocarbon and 2D Materialsと17 ナノカーボンのコードシェア
【CS.7】 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス／配線／集積化技術のコードシェア
【CS.8】 6.5 表面物理・真空、7.6 原子・分子線およびビーム関連新技術のコードシェア
【CS.9】 8.3 プラズマナノテクノロジー、9.2 ナノ粒子・ナノワイヤ・ナノシート、13.6 ナノ構造・量子現象・ナノ量子デバイスのコードシェア
【CS.10】 12.6 ナノバイオテクノロジー、12.7 医用工学・バイオチップのコードシェア
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チュートリアル
高温超伝導入門：直観的に理解する基礎から物質まで
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本部行事
功労会員証贈呈式、フェロー表彰式、第52回応用物理学会講演奨励賞授賞式
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ランチョンセミナー
アステラテック（株）
プラズマ・サーモ・ジャパン（株）
計測エンジニアリングシステム（株）
日本セミラボ（株）
（一社）日本半導体製造装置協会
リサーチソリューションズ/ （株）紀伊國屋書店
（株）デンソー
シンポジウム(口頭講演)
一般セッション(口頭講演)
一般セッション(ポスター講演)
本部行事
チュートリアル
ランチョンセミナー
発表形式：
シンポジウム(口頭講演)
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C304 (C304)
C306 (C306)
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C407 (C407)
M206 (マルチメディアホール)
A103(PV) (A103(PV))
A305(PV) (A305(PV))
P01 (体育館)
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会場：
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