10:45 〜 11:00 △ [22a-A404-6] 極低濃度HF水溶液を用いて作製したSi陽極酸化膜の原子結合状態 〇(M1)新井 太貴1、喬 楊木易1、鈴木 俊明1、吉越 章隆2、丹羽 雅昭1、本橋 光也1 (1.東京電機大工、2.原子力機構物質科学研究センター)