簾智仁

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発表者・著者、共著者

2022年9月20日(火) 09:00 〜 11:45 B203 (B203)

一般セッション(口頭講演)
| 21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
| 21.1 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[20a-B203-1~10] 21.1 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

09:30 〜 09:45

[20a-B203-3] 水を溶媒とするミストCVD法によるアナターゼ型TiO₂薄膜の作製

〇簾智仁¹、Xu Han¹、三浦弓恵¹、中山亮¹、清水亮太¹、山田直臣²、金子健太郎³、一杉太郎^1,4 (1.東工大物質理工、2.中部大、3.京大院工、4.東大院理化)