斉藤基

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発表者・著者、共著者

2022年9月23日(金) 13:15 〜 17:00 C102 (C102)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.3 絶縁膜技術

[23p-C102-1~14] 13.3 絶縁膜技術

16:15 〜 16:30

[23p-C102-12] 2段階酸化によるGeO₂膜の作製と評価

〇斉藤基¹、土屋雄太¹、岩崎好孝¹、上野智雄¹ (1.農工大院工)