09:45 〜 10:00 [21a-C106-4] 光酸化ナノ多孔質SiO2膜を用いた薄膜イオンダイオードの作製 〇(M1)熊倉 成水1、石﨑 裕也1,2、山本 俊介1、三ツ石 方也1 (1.東北大院工、2.立教大理)