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普 迪
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発表者・著者、共著者
2022年9月23日(金) 09:30 〜 11:30
P04 (体育館)
一般セッション(ポスター講演)
| 13 半導体
| 13.3 絶縁膜技術
[23a-P04-1~2] 13.3 絶縁膜技術
09:30 〜 11:30
[23a-P04-2] FT-IR微分スペクトルによる低温酸化Si膜中の残留OH基量の評価
〇
普 迪
1
、堀田 將
1
(1.北陸先端大)
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