一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
2022年9月21日(水) 13:30 〜 18:00 B204 (B204)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 13:45
〇大坂 藍1、永井 正也2、玄地 真悟1、任 慧1、田中 秀和1、服部 梓1 (1.阪大産研、2.阪大基礎工)
スケジュール
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)
13:45 〜 14:00
〇(M1)潮田 和季1、松浦 直毅1、久保 理1、田畑 博史1、片山 光浩1 (1.阪大院工)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇志賀 大亮1,2、程 详遴1、金 兌炫1、神田 龍彦1、長谷川 直人1、北村 未歩2、吉松 公平1、組頭 広志1,2 (1.東北大多元研、2.KEK物構研)
スケジュール
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)
14:15 〜 14:30
〇浅見 真崇1、桐原 芳治1、家城 大輔2,1、保井 晃3、石川 亮佑1,2、野平 博司1 (1.東京都市大学、2.都市大総研、3.高輝度光科学研究センター)
スケジュール
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)
14:30 〜 14:45
〇相馬 拓人1、吉松 公平1、大友 明1 (1.東工大物質理工)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇佐々木 智視1、岡 大地1、齋藤 大地1、清水 宙一1、福村 知昭1,2,3 (1.東北大院理、2.東北大WPI-AIMR&CRC、3.東北大CSIS・CSRN)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇小塚 裕介1、藤岡 淳2、佐々木 泰祐1、只野 央将1 (1.物材機構、2.筑波大)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇各務 良哉1、須田 潤1 (1.中京大工)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇川口 紗良1 (1.甲南大理工)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇(M1)佐藤 岳1、神永 健一1、永沼 博2、丸山 伸伍1、松本 裕司1 (1.東北大院工、2.東北大CSIS)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇(PC)Ramchandra Sahoo1、R Nanno1、Y Yamagishi1、Takuto Soma1、Akira Ohtomo1 (1.Tokyo Tech., Dept. Chem. Sci. Eng.)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇若林 勇希1、大塚 琢馬2、ヨシハル クロッケンバーガー1、澤田 宏2、谷保 芳孝1、山本 秀樹1 (1.NTT物性研、2.NTTCS研)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇若林 勇希1、小林 正起2、竹田 幸治3、北村 未歩4、武田 崇仁2、岡野 諒2、ヨシハル クロッケンバーガー1、谷保 芳孝1、山本 秀樹1 (1.NTT物性研、2.東大工、3.原研、4.高エネ研)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇片山 裕美子1、大熊 光1、門脇 福延1、徳本 有紀2、上野 和紀1 (1.東大院総合、2.東大生研)
スケジュール
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17:15 〜 17:30
〇(M2)Zhaochen MA1、Daichi Oka1、Tomoteru Fukumura1 (1.Tohoku Univ.)
スケジュール
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17:30 〜 17:45
〇(D)卞 志平1、楊 倩2、吉村 充生3、ジョ ヘジュン4、太田 裕道4 (1.北大院情報、2.中国・江蘇大、3.北大工、4.北大電子研)
スケジュール
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17:45 〜 18:00
〇芦原 凜太郎1、河原 正美2、川江 健1 (1.金沢大理工、2.(株)高純度化学研究所)
スケジュール
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