The 83rd JSAP Autumn Meeting 2022

Presentation information

Oral presentation

13 Semiconductors » 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[20a-A406-1~9] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

Tue. Sep 20, 2022 9:00 AM - 11:30 AM A406 (A406)

Keisuke Yamamoto(Kyushu Univ.), Noriyuki Uchida(AIST)

9:00 AM - 9:15 AM

[20a-A406-1] Size Dependence of Photoluminescence Properties of Fe-silicide Nanodots

Haruto Saito1, Katsunori Makihara1, Noriyuki Taoka1, Akio Ohta1, Seiichi Miyazaki1 (1.Nagoya Univ.)

Keywords:silicide, nanodots, luminescence

これまでに、極薄Fe膜/SiO2へのリモートH2プラズマ(H2-RP)処理により形成したFeナノドットに基板温度400˚CでSiH4照射することで、b-FeSi2ナノドットが高密度(~1011cm-2)・一括形成でき、このナノドットからのPLは、0.6~0.8eVのブロードなスペクトルが支配的であることを明らかにした。本研究では、Fe膜厚の制御によりサイズの異なるFeナノドットを形成した後、SiH4照射することでFeシリサイドナノドットを形成し、ドットサイズが発光特性に及ぼす影響を評価した。