2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[20a-B203-1~10] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2022年9月20日(火) 09:00 〜 11:45 B203 (B203)

相馬 拓人(東工大)

10:30 〜 10:45

[20a-B203-6] Si添加酸化タングステン薄膜の結晶構造と配向性

安達 裕1 (1.物材機構)

キーワード:ガスセンサ、パルス・レーザー・デポジション、薄膜X線回折

WO3はガスセンサ材料として知られている酸化物半導体であり、Siを添加することによりアセトンに対して優れたガスセンサ特性を示す。この優れたセンサ特性は、Si添加による低温単斜晶相の生成に起因するものと考えられている。本来は低温で安定な結晶相が室温以上で安定化した報告は粉末によるものが多く、薄膜における報告はほとんどない。本研究では、Siの添加がWO3薄膜の結晶構造と配向にどのように影響を与えるかを調査した。