2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[20a-B204-1~11] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2022年9月20日(火) 09:00 〜 12:00 B204 (B204)

鈴木 拓(物材機構)

11:45 〜 12:00

[20a-B204-11] 反応性スパッタリング法を用いて作製した酸化タングステン薄膜の熱処理効果

〇(M1)桂 哲範1、和所 慶将1、金 敬鎬1、阿部 良夫1 (1.北見工業大学)

キーワード:酸化物、薄膜

エレクトロミック(EC)特性を示す金属酸化物の省エネルギー素子への応用に向けた研究が活発に行われている。その中、酸化タングステン(WO3)は還元着色EC材料として知られている。本研究では、代表的なドライプロセスである反応性スパッタリング法を用いて作製したWO3薄膜の構造的・光学的特性への熱処理が及ぼす影響を評価し、薄膜の物性変化に伴うEC特性への影響を明らかにする。